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                超纯水设备助力半导体行业更具“芯”机

                来源:沈阳水处理公司↘作者:沈阳水处理工程师时间:2021-10-13

                   半导体材〒料是全球半导体产业发展的新战略√高地。目前,美国及其伙伴国家已将一些关键材料和生产设备列入管制清单,危及中国●半导体工业及相关工业系统的安全。迫切需』要实现我国半导体材料、辅助材料、关键技术和★重要设备的自主控制。

                  在半导体加工过程中,需要对水进行处理。水质ξ要求很高,不能含有任何离子杂质,但超纯水的回用率不高,因此对高品质超纯水的需求很大。传统的超纯水制备方法主要有♀蒸馏法和离子交换法。蒸馏设备要求严ζ 格,产量低,能耗高。离子交换法再生失效的离子交换树脂需要大量的酸Ψ 碱溶液和大量的清洗水,劳动强度Ψ高。随着电镀工业的不断发展,对超纯水水的质量要求越来越高。这些传统方法已↘经不适合生产高纯度超纯水。

                  莱特莱德超纯水设备通常由预处理系统、RO反渗透主▓机系统、EDI电脱盐系统、精混床系统等构成主要设备系统。经过「多年的实践,莱特莱德采用反渗透技术与EDI装置及抛光混床相结合的工艺制备超纯水,具有良好的实用价值,可←实现自动控制。在一定▅程度上可以有效满足我国电子水质标准,具有自动化程度高、过程自动控制容易、气田水水质稳定等╲优点。

                  莱特莱德超纯水设备设计采用成熟、可靠、高度自动化的两级RO+EDI+精混床除盐水处∞理工艺,确保处理后的电阻率达到18MΩ以上。设备内部还安装有反渗透预脱盐技术,这再次从根本上确保了设备的出水质量。同时,EDI处※理装置废水产量少,不会污』染环境,具有很高的环境效益和经济效益,助力半导体行业更具“芯”机。

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