半导体材〒料是全球半导体产业发展的新战略√高地。目前,美国及其伙伴国家已将一些关键材料和生产设备列入管制清单,危及中国●半导体工业及相关工业系统的安全。迫切需』要实现我国半导体材料、辅助材料、关键技术和★重要设备的自主控制。

　　在半导体加工过程中，需要对水进行处理。水质ξ要求很高，不能含有任何离子杂质，但超纯水的回用率不高，因此对高品质超纯水的需求很大。传统的超纯水制备方法主要有♀蒸馏法和离子交换法。蒸馏设备要求严ζ　格，产量低，能耗高。离子交换法再生失效的离子交换树脂需要大量的酸Ψ 碱溶液和大量的清洗水，劳动强度Ψ高。随着电镀工业的不断发展，对超纯水水的质量要求越来越高。这些传统方法已↘经不适合生产高纯度超纯水。

　　莱特莱德超纯水设备通常由预处理系统、RO反渗透主▓机系统、EDI电脱盐系统、精混床系统等构成主要设备系统。经过「多年的实践，莱特莱德采用反渗透技术与EDI装置及抛光混床相结合的工艺制备超纯水，具有良好的实用价值，可←实现自动控制。在一定▅程度上可以有效满足我国电子水质标准，具有自动化程度高、过程自动控制容易、气田水水质稳定等╲优点。

　　莱特莱德超纯水设备设计采用成熟、可靠、高度自动化的两级RO+EDI+精混床除盐水处∞理工艺，确保处理后的电阻率达到18MΩ以上。设备内部还安装有反渗透预脱盐技术，这再次从根本上确保了设备的出水质量。同时，EDI处※理装置废水产量少，不会污』染环境，具有很高的环境效益和经济效益，助力半导体行业更具“芯”机。