半导体行〖业是一个高能耗的行业。在半导体㊣产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，尤其对超纯水系统的使用要求更高。

　　在半◣导体制作工艺中，50%以上的工序中硅片与超纯水直接接触、80%以上的工序需要进行化学处理，而化学处理又与超纯水有关ぷ水中的杂质会进入硅片，如带入过量的杂质，就会导致器件性能下降、影响产品性能。因此，制备高品质的超纯√水已成为发展大规模集成电路的重要前提技术。

　　超纯水既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均◤去除至很低程度的水。这种水中除了水分子外，几乎没有什★么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二噁英等有机物，当然也◣没有人体所需的矿物质微量元素，也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。电阻率大于18M Ω*cm，或接近18.3M Ω*cm极限值(25℃)。

　　超纯水处理是一般工艺很难达到的程度，莱特莱德采用预处理、反渗透技术、靶向离子交换系统以及后级处理四大步骤，独有的靶向离子交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除，保证出水硼离子能够△稳定≤5ppt。

　　半导体业由于技术发展迅速、市场变化大，其生产能力●具有波动性。所以，要求与之配套的半导体纯水系统要有一定的可调●节性、留有合理的余量，对超纯水设备供水的灵活性，安全性，及时性,提出了更高的要求。莱特莱德半导体纯水系统投入运行后，能够生产出合格的电阻率为18MQ *CM的超纯水，为半导体用水提供用水保障。