硅晶圆是硅半导体电路制作所用的硅晶片，晶圆是制造IC的基本原料。硅晶圆是电子行业制造中的基础材料，企业是否本土化已经成为了构建半导体产业链配套能力的关键。现如今，我国的硅晶圆来源主要依赖于进口，由于行业壁垒极高，国产国产硅晶圆还尚不成熟。

　　我国是消费电子产品的生产国、出口国和消费国，在国家政策的扶持下，我国众多电子企业纷纷开发硅晶圆研发新工艺，这也标志着我国硅晶圆产业有望进入黄金期。但硅晶圆对纯度要求极高，因此对于水质也有着超高的要求，超纯水设备生产的水质可满足行业用水需求。

　　莱特莱德超纯水设备采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备相结合的方式来制取超纯水，这是一种制取超纯水的新工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，与传统方法相比，该设备具有以下优势：

　　1、无需使用任何再生化学品进行再生。用EDI水处理过程中不需要添加任何化学品，减少了化学品运输问题，同时降低了系统运行费用。

　　2、无需中和药剂。EDI膜块不会有酸碱废液产生，所以不需要酸碱中和池，一般情况下，EDI水处理系统产出的浓水完全可以回收再利用。

　　3、整套系统运行成本较低。EDI水处理设备主要是消耗电量来维持系统运行，其耗电量比传统混床工艺低。

　　4、水资源利用率高。与混床工艺相比较，EDI水处理设备对水的利用率可以达到95%~99%，有效提升了水资源利用率。

　　5、EDI水处理设备可以连续工作，无需树脂更换，自动化性能强，无需人工操作。

　　6、EDI水处理设备设计结构紧凑，占地面积小，安装方便。

　　莱特莱德超纯水设备其能够连续稳定的制备品质优良的超纯水，不会因为树脂再生而停止运行，设备结构设计相对靠紧，所以其占地非常小，可以为企业节省很多空间，超纯水设备在出厂前均需进行装置调试，所以设备故障几率较小，日常保养、维修等操作都非常简单，完全符合硅晶圆生产用水水质标准，莱特莱德超纯水设备的应用将纯水制取技术推向了全新高度，为各行业水处理提供高效的技术支持。

　　随着国家政策扶持力度的不断加大，硅晶圆生产行业也在朝着更加积极的方向发展，行业对于超纯水的需求也在不断增大，莱特莱德公司专业生产反渗透+EDI超纯水设备，产水电导率可达18MΩ·CM(25℃)， 我们拥有一系列更先进，更具实用性的解决方案，为用户提供高质量的超纯水设备。从研发设计、设备制造，到工程施工、运营维护，莱特莱德的目标是成为客户值得信赖的服务商，为客户提供不但买得起，还能用得起，更能用得好的环保解决方案!